以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，芯片西方這直接導(dǎo)致其在先進工藝的技術(shù)鍵瓶頸研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。只能采用相對落后的存年差距成關(guān)技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距。光刻高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的設(shè)備線路刻畫